日本Osaka Vacuum大阪真空 涡轮分子泵TG1100F光学零件制造用
日本Osaka Vacuum大阪真空 涡轮分子泵TG1100F光学零件制造用TG50F可调位复合分子泵特点自由安装位置尺寸紧凑节能减排快速启动可快速排气停止与大气入口兼容可串行通讯目的・半导体制造・电子枪排气、离子源排气・FPD制造・表面处理、表面改性・各种电子零件的制造・分析测试设备・管材制造、光学零件制造・加速器、放射线设施、核聚变研究·热处理·研究与开发*排出腐蚀性气体等时,请选择与化学品兼
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日本Osaka Vacuum大阪真空 涡轮分子泵TG1100F光学零件制造用TG50F可调位复合分子泵特点自由安装位置尺寸紧凑节能减排快速启动可快速排气停止与大气入口兼容可串行通讯目的・半导体制造・电子枪排气、离子源排气・FPD制造・表面处理、表面改性・各种电子零件的制造・分析测试设备・管材制造、光学零件制造・加速器、放射线设施、核聚变研究·热处理·研究与开发*排出腐蚀性气体等时,请选择与化学品兼
日本Osaka Vacuum大阪真空 涡轮分子泵TG1100F光学零件制造用
TG50F可调位复合分子泵特点
自由安装位置
尺寸紧凑
节能减排
快速启动
可快速排气停止
与大气入口兼容
可串行通讯
目的
・半导体制造
・电子枪排气、离子源排气
・FPD制造
・表面处理、表面改性
・各种电子零件的制造
・分析测试设备
・管材制造、光学零件制造
・加速器、放射线设施、核聚变研究
·热处理
·研究与开发
*排出腐蚀性气体等时,请选择与化学品兼容的TG-M或TG系列。