Optorun 高性能RF离子源离子束辅助沉积束流照射OIS-Three Plus
玉崎-Optorun 高性能RF离子源17cm射频离子源OIS-Two玉崎-Optorun 高性能RF离子源17cm射频离子源OIS-Two Plus玉崎-Optorun 高性能RF离子源离子束辅助沉积束流照射OIS-ThreeOptorun 高性能RF离子源离子束辅助沉积束流照射OIS-Three PlusOIS-Two/OIS-Two Plus是光环离子辅助沉积（IAD）是面向最优化了的本公司
玉崎-Optorun 高性能RF离子源17cm射频离子源OIS-Two
玉崎-Optorun 高性能RF离子源17cm射频离子源OIS-Two Plus
玉崎-Optorun 高性能RF离子源离子束辅助沉积束流照射OIS-Three
Optorun 高性能RF离子源离子束辅助沉积束流照射OIS-Three Plus
OIS-Two/OIS-Two Plus是光环离子辅助沉积（IAD）
是面向最优化了的本公司开发的高性能RF离子源。
可以以高速率进行大面积IAD真空蒸镀
也适用于基板清洗。
光学薄膜形成装置OTFC-1100、OTFC-1300、
通过搭载在OTFC-1550上，适合量产各种滤光器。
规格
| 型号 | OIS-Two | OIS-2 Plus | |
| 尺寸 | φ300mm×150mm（高） | ||
| 网格尺寸 | φ17cm（3个钼碟形网格） | ||
| 束电压 | 100V～1500V | ||
| 束电流（最大） | 1200毫安 | ||
| 加速电压 | 100V～1000V | ||
| 射频功率（最大） | 750W | 1000W | |
| 气体流量 | 20sccm ~ 30sccm (氩气) 40sccm ~ 60sccm (氧气) | ||
| 工作压力 | 5 × 10-2Pa | ||
| 水冷方式 | 射频线圈和本体 | ||