• 3D NAND:长江存储公司介绍

    一、基本概况**长江存储科技有限责任公司(YMTC,Yangtze Memory Technologies)**,2016‑07‑26 成立,总部武汉光谷,是国内**唯一实现 3D NAND 闪存自主 IDM(设计‑制造‑封测‑方案)**企业长江存储。- 定位:专注 3D NAND Flash(闪存),不做 DRAM 内存;- 业务:3D NAND 晶圆 / 颗粒、UFS 嵌入式存储、消费 /

    2026-08-25 admin 54

  • 湿电子化学品:江化微晶瑞电材公司介绍

    江化微(603078,江阴江化微电子材料股份有限公司)江阴江化微... 基本概况- 成立:2001 年,江苏江阴;2017 上交所主板上市,**国内首家专业湿电子化学品上市公司**,国家级专精特新小巨人企业江阴江化微...。- 定位:**专注湿电子化学品,全品类试剂平台**,以超净高纯试剂 + 光刻胶配套试剂为主,业务聚焦半导体、显示面板、光伏三大赛道。 核心产品与纯度等级- 产品:通用高纯试剂(

    2026-08-25 admin 48

  • 高纯靶材:江丰电子公司介绍

    江丰电子(宁波江丰电子材料股份有限公司,300666)宁波江丰电... 一、基本概况- **成立**:2005 年,总部浙江宁波余姚,2017 年深交所创业板上市,实控人姚力军博士。- **定位**:**国内超高纯半导体溅射靶材龙头**,国家制造业单项冠军,国家 02 重大专项承担单位,国内少数实现靶材全产业链 IDM 的企业宁波江丰电...。- **业务**:核心为**超高纯金属溅射靶材**,

    2026-08-25 admin 33

  • CMP抛光垫:鼎龙股份公司介绍

    湖北鼎龙控股股份有限公司,2000 年成立,2010 年创业板上市,**国内唯一实现 CMP 抛光垫全流程自主规模化量产的本土企业**,打破美国陶氏(杜邦)在抛光垫领域长期垄断,国内 CMP 抛光垫龙头,同时布局抛光液、清洗液,打造 CMP 全套耗材方案。> > CMP 抛光垫:CMP 工艺核心耗材,聚氨酯高分子材料,负责机械研磨;抛光垫与抛光液配合完成晶圆平坦化;**抛光垫壁垒高于抛

    2026-08-25 admin 61

  • CMP抛光液:安集科技公司介绍

    安集微电子科技(上海)股份有限公司,2004 年成立,2019 年科创板上市,国内 CMP 化学机械抛光液龙头,国内唯一实现 CMP 抛光液全品类量产的本土企业,打破海外垄断,是芯片制造关键耗材国产替代标杆。CMP(化学机械抛光):芯片制造中晶圆全局平坦化核心工艺,每一层金属 / 介质薄膜都需要抛光,先进制程芯片抛光步骤可达 30 次以上;抛光液是 CMP 核心耗材,配方、磨料、杂质控制壁垒极高,

    2026-08-25 admin 68

  • 特种气体:中船特气公司介绍

    中船(邯郸)派瑞特种气体股份有限公司(中船特气,688146.SH)核心标签:中船集团央企背景,国内电子特气收入规模第一,三氟化氮全球龙头,六氟化钨全球最大产能基地,源自七一八所军工氟化工技术积累。一、基础概况主体:中船(邯郸)派瑞特种气体股份有限公司,控股股东为中国船舶集团第七一八研究所(派瑞科技),军工技术转民用,国家 02 专项承担单位。成立:2016‑12‑21;2023‑04‑21 科创

    2026-08-20 admin 60

  • 特种气体:华特气体公司介绍

    广东华特气体股份有限公司(华特气体,688268.SH)核心标签:国内平台型电子特种气体龙头,国内唯一同时取得 ASML+Gigaphoton 双认证光刻混合气厂商,02 专项承担单位,半导体电子特气国产替代核心企业。一、基础概况成立:1999 年,总部广东佛山;2019‑12 科创板上市,佛山首家科创板上市民企。实控人:石平湘、傅铸红;国内 20 余家子公司,江西、江苏、浙江、陕西等多处生产基地

    2026-08-20 admin 38

  • KrF光刻胶:彤程新材公司介绍

    彤程新材料集团股份有限公司(彤程新材,603650.SH)核心标签:国内 KrF(248nm)光刻胶规模化量产龙头,传统橡胶化工现金牛,通过收购北京科华切入半导体光刻胶,G/I‑KrF‑ArF 全系列光刻胶布局。一、基础概况成立:1999 年,总部上海,2018‑06 上交所主板上市。转型路径:传统主业为轮胎特种酚醛树脂,全球轮胎用特种树脂龙头,为半导体业务提供稳定现金流;2018‑2020 年收

    2026-08-20 admin 98

  • ArF光刻胶-南大光电公司介绍

    江苏南大光电材料股份有限公司(南大光电,300346.SZ)核心标签:国内 ArF (193nm) 光刻胶唯一实现头部晶圆厂验证 + 商业化供货企业,半导体平台型电子材料厂商。一、基础概况成立:2000 年 12 月,技术源自南京大学,2012‑08‑07 创业板上市。总部:江苏苏州;生产基地:苏州、宁波(光刻胶核心基地)、安徽全椒、山东淄博、内蒙古乌兰察布等。定位:国家级专精特新小巨人,承担国家

    2026-08-20 admin 114

  • 12寸大硅片-立昂微公司介绍

    杭州立昂微电子股份有限公司(立昂微,605358.SH)杭州立昂微...立昂微生产厂区一、基础概况成立:2002‑03‑19,总部杭州钱塘区,2020‑09‑11 上交所主板上市企查查。创始人:我国半导体材料学科开拓者阙端麟院士,法定代表人 / 实控人:王敏文杭州立昂微...。定位:国内少有的垂直一体化 IDM 平台,同时布局半导体硅片、功率器件、化合物半导体三大赛道,实现 “硅材料‑芯片制造”

    2026-08-20 admin 36

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